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Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes

Sprache EnglischEnglisch
Buch Hardcover
Buch Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes Oluwatobi Adeleke
Libristo-Code: 43909170
Verlag Taylor & Francis Ltd, Dezember 2023
This book describes the application of machine learning modelling approaches in atomic layer deposit... Vollständige Beschreibung
? points 633 b
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This book describes the application of machine learning modelling approaches in atomic layer deposition and presents detailed information on modelling, optimization, and prediction of the behaviour and characteristics of ALD for improved process quality control.

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Informationen zum Buch

Vollständiger Name Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes
Autor Oluwatobi Adeleke, Sina Karimzadeh, Jen, Tien-Chien (University of Johannesburg, South Africa)
Sprache Englisch
Einband Buch - Hardcover
Datum der Veröffentlichung 2023
Anzahl der Seiten 496
EAN 9781032386706
Libristo-Code 43909170
Verlag Taylor & Francis Ltd
Gewicht 662
Abmessungen 156 x 234

Kategorie

Technologie, Ingenieurswissenschaft, Landwirtschaft, Industrieprozesse > Elektronik, Nachrichtentechnik > Elektronik > Regelungstechnik
Technologie, Ingenieurswissenschaft, Landwirtschaft, Industrieprozesse > Technologie, allgemein > Ingenieurswesen, Maschinenbau allgemein
Technologie, Ingenieurswissenschaft, Landwirtschaft, Industrieprozesse > Maschinenbau und Werkstoffe > Materialwissenschaft
Technologie, Ingenieurswissenschaft, Landwirtschaft, Industrieprozesse > Bauingenieur-, Vermessungs- und Bauwesen > Wasserbau
EDV und Informationstechnologie > Informatik > Künstliche Intelligenz
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