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Atomic Layer Deposition

Principles, Characteristics, and Nanotechnology Applications

Sprache EnglischEnglisch
Buch Hardcover
Buch Atomic Layer Deposition Tommi Kaariainen
Libristo-Code: 04949772
Verlag John Wiley & Sons Inc, Juni 2013
Since the first edition was published in 2008, Atomic Layer Deposition (ALD) has emerged as a powerf... Vollständige Beschreibung
? points 548 b
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Since the first edition was published in 2008, Atomic Layer Deposition (ALD) has emerged as a powerful, and sometimes preferred, deposition technology. The new edition of this groundbreaking monograph is the first text to review the subject of ALD comprehensively from a practical perspective. It covers ALD's application to microelectronics (MEMS) and nanotechnology; many important new and emerging applications; thermal processes for ALD growth of nanometer thick films of semiconductors, oxides, metals and nitrides; and the formation of organic and hybrid materials.

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Informationen zum Buch

Vollständiger Name Atomic Layer Deposition
Autor Tommi Kaariainen, David Cameron, Marja-Leena Kaariainen, Arthur Sherman
Sprache Englisch
Einband Buch - Hardcover
Datum der Veröffentlichung 2013
Anzahl der Seiten 272
EAN 9781118062777
ISBN 1118062779
Libristo-Code 04949772
Verlag John Wiley & Sons Inc
Gewicht 582
Abmessungen 240 x 164 x 25

Kategorie

Technologie, Ingenieurswissenschaft, Landwirtschaft, Industrieprozesse > Maschinenbau und Werkstoffe > Materialwissenschaft > Technische Anwendung von Oberflächenbeschichtungen und -filmen
Technologie, Ingenieurswissenschaft, Landwirtschaft, Industrieprozesse > Elektronik, Nachrichtentechnik > Elektronik > Elektronische Geräte und Materialien
Technologie, Ingenieurswissenschaft, Landwirtschaft, Industrieprozesse > Technologie, allgemein > Nanotechnologie
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